林墨神淡定。

“，繼續加油，關于n流片成功這件事，這邊會通李首。

這些事兒，也時候，以進宣傳，另廠建設這件事也得好好考慮

們話全力給突破，曝技術，盡實現n芯片流片！”

說著，林墨就挂斷電話。

個神，興奮已！！n芯片，流片良品率達到！

這以說，開創先！

部分刻機，n芯片，良品率達到、，就非常牛逼

而自己刻機，現如今良品率，居然能達到！

這開創先，麼？

另便

曝技術。

芯片曝技術。

這個技術，部分刻機廠商核技術。

刻機進入第代之後，最藝結點，就n。

至于第代刻機，目全球被公司壟斷掉。

至于第代刻機

這玩，尚處于傳說。

而第代刻機，節點達到n之後。

進步縮，依靠單次曝，已經無能為力

故此，産業界開始采用次曝，或者刻蝕來實現縮制程。

其，最關鍵兩種藝雙曝技術，以及自對準雙成像技術。

所謂雙曝，采用技術就，後曝同圖形疊加，來實現更，更精細制程。

這種方法優點以實現更精度，缺點增加成本藝，且對疊加精度求較。

相較之，自對準雙成像技術則容易得，同時以實現精度提倍。

但這種辦法，也個非常顯缺點。

就設計程師，設計來版圖必須符定規則。換而言之

隻符定規則設計，才适使用自對準雙成像技術